P5000

P5000平台是AMAT多腔体设备平台，可以安装4个腔体。刻蚀腔体有MarkⅡ、MxP、MxP+、Super-E等，可用于氧化硅、氮化硅、多晶硅、硅及金属材料的刻蚀。

CVD腔体可用于氧化硅、氮化硅、金属钨等材料的化学气相沉积。

产品特点

1.设备占地面积小、空间利用率高，适用于规模化生产。

2.可选配液晶操作面板。

3.可选配双硬盘系统。

4.可定制不同的腔体配置，实现一机多用。

5.可升级兼容透明片。

6.提供多种新工艺开发及解决方案。