Sequel是Novellus 基于DLCM平台的PECVD设备，根据不同需求最多可以配置3个6station工艺腔，最多可以同时对18片wafer进行工艺处理。
产品特点
1.可选配双硬盘系统。
2.可升级兼容透明片。
3.可按要求配置MC1-MC4控制器。
