CVD 300
自主研发12英寸等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备,对反应腔模块及关键部件优化设计的高产能PECVD设备。
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描述
产品特点
1.独特多层Loadlock 设计,配合传输逻辑优化,产能高,成膜工艺优化,膜质佳,均匀性好;
2.操作系统基于Windows进行研发的符合半导体标准软件控制系统,操作人性化,符合国人操作习惯;
3.具有独立气体输运系统,独立温度控制Heater 的多反应台腔体设计;
4.多工位混合工艺方式可满足多样性工艺需求;
5.兼容基于硅烷、TEOS氧化膜、氮化膜、硼磷掺杂等不同工艺需求;
应用领域
主要应用于逻辑芯片及FLASH、 DRAM存储芯片制造领域。