C2 Altus是Novellus基于DLCM平台的WCVD设备，最多可配置3个工艺腔，每个腔体能同时加工5片wafer，生产工艺最高可达65nm。
产品特点
1.可选配双硬盘自动备份系统，保证数据安全。2.可选配EPD装置。
