产品特点

1.设备整体体积小，反应腔室多，生产效率高、能耗低。
2.可选配的双射频系统，配置更灵活，成本更可控，使客户有更多设备配置选择。
3.和自主研发的CVD设备使用统一传送平台，后期维护更加方便，成本更加低廉。
4.腔体配置的线圈可增加plasma的浓度，使蚀刻速率更加高效，均匀性更好。
5.自主研发的控制系统，wafer传输更加安全高效，整机参数控制更精准。
6.绝大部分国产零部件大大降低了客户后期的维护成本。

应用领域

主要应用5G领域的三代半导体的功率原器件，也可使用在车载芯片，通讯领域芯片。